電子材料

Electronic

GLR series

光硬化型 パターン形成材料

表示用材料

フォトリソにて、パターン形状を作製することができる材料です。

特徴

・パターニング性:数μm~数十μm(各種アルカリ現像液にてフォトリソ可能)
・透明性:透過率 > 90%(at 400nm)
・高耐薬品性:強塩基・強酸・各種有機溶剤に対して耐性良好

製品バリエーション

  一般タイプ 微細化タイプ 備考
感度 < 100mJ/cm2 < 100mJ/cm2  
透過率(400nm) > 90% > 90%  
形状角度 30-70° 45-85° 基板からの角度
硬度 5H 6H pencil hardness
耐薬品性 変化無し 変化無し 焼成後 膜厚1μm
IPA, 25℃/30min
EtOH, 25℃/30min
5% NaOH, 25℃/30min
5% H2SO4, 25℃/30min

代表的なパターン形状

ドットパターン、ライン&スペース

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